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Epitaxy involves depositing a controlled amount of semiconductor material on the substrate surface, using techniques like chemical vapor deposition (CVD). This layer helps in achieving desired electrical properties. Ion Implantation: Selective doping of the epitaxial layer is performed by implanting impurity ions into specific regions using techniques such as ion implantation. This process alters the electrical characteristics of the semiconductor material, creating regions with different conductivity types (e.g., N-type or P-type). Photolithography: A layer of photoresist material is applied to the surface of the substrate. A photomask, containing the desired pattern, is used to expose the photoresist to ultraviolet (UV) light. The exposed areas of the photoresist are chemically removed, leaving behind a patterned mask. Esporte beats.18+ | Geschäftsbedingungen gelten. 40.
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